mportant;">VIGON® US
mportant;">用于去除助焊剂残留物的水基清洗液
nce="true" style="box-sizing: border-box; transform: perspective(2500px) rotateY(0deg); backface-visibility: hidden; transition-property: transform; transition-duration: 0.9s; transition-timing-function: cubic-bezier(0.25, 0.25, 0.75, 0.75); transition-delay: 0.3s;">
VIGON® US 是特别设计应用于超声波式,底部喷流式和离心式清洗设备中的水基清洗液。基于ZESTRON公司专利的 MPC微相清洗技术,VIGON® US可以清除电子组装件,倒装芯片和CMOS器件上的各种助焊剂残留物。
相较于其他清洗液的优势:
- VIGON® US工艺窗口很宽,可以轻松去除各种锡膏和助焊剂残留物
- VIGON® US无闪点,应用中不需要额外的防爆措施
- VIGON® US特别设计用于浸入式清洗设备
- VIGON® US的配方中不含有表面活性剂成分, 因此易于漂洗,不会在被清洗件表面有残留物,确保清洗后的离子污染度很低
- VIGON® US的高清洗负载能力,保证了其较长的使用寿命
- VIGON® US特别适用于针对细间距和低底部间隙元器件的清洗应用
- VIGON® US可以有效清除倒装芯片和CMOS器件上的粘性助焊剂残留,确保后续的底部填充工艺不会有气泡
- VIGON® US可以有效清除CMOS成像器件上的颗粒物,增强图形分辨效果及降低像素点缺失的缺陷
- 气味淡