CoCrFeNiMn靶材 科研实验高熵合金靶 成分定制

 
 
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品牌 拉瓦锡
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更新 2024-11-06 16:54
 
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拉瓦锡(北京)新材料科技有限公司

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详细说明
【溅射靶材的特性】‌
‌高纯度‌:靶材的纯度直接影响薄膜的质量和性能。高纯度靶材可以减少薄膜中的杂质,提高器件的性能和可靠性‌1。
‌良好的机械性能‌:在溅射过程中,靶材需要承受高速离子的持续撞击,因此需要具备良好的机械强度和韧性,以保持形状和尺寸的稳定性‌1。
‌化学稳定性‌:靶材在溅射过程中应具有良好的化学稳定性,以防止与反应室内的其他材料发生不良反应,影响薄膜的纯度和性能‌1。
‌导电性和导热性‌:对于需要通电加热的溅射工艺,靶材需要有良好的导电性和导热性,以保证溅射过程的效率和均匀性‌
【用途】
各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用
【包装】
根据产品不同特性,有针对性的选择包装方式,保证产品的完好送达。
【售后】
若出现质量问题,我公司支持全程售后。
【公司主营业务】
高熵合金  金属颗粒(含稀有金属、稀土金属、gui金属)  非金属颗粒      
金属粉末  非金属粉末  化合物颗粒/粉末  球形打印粉末   纳米材料
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